Vienas iš pavojų, su kuriais šiuo metu susiduria kompanija „Intel“ – tikimybė, kad greitu metu nustos galioti kaip vadinamas Mūro dėsnis. Šį sugalvojo vienas iš „Intel“ įkūrėjų – Gordonas Mūras (Gordon Moore), ir jis teigia, kad tranzistorių skaičius, kuriuos bus galima ekonomiškai efektyviai patalpinti mikroschemoje, padvigubės kas dvejus metus.
Tiesa, technologinis procesų mažėjimas privers kurti tokius nedidelius tranzistorius, kad jų darbo aprašymui teks pasinaudoti kvantine mechanika. Leidinys „Business Insider“ cituoja „Intel“ generalinį direktorių Brianą Krzanichą, kuris teigia, jog potencialiu vis didėjančios problemos sprendimu tapti ekstremali ultravioletinė litografija (EUV).
Reikia pažymėti, kad „Intel“ ne tik daug kalba apie šią technologiją, tačiau ir nemažai investuoja į ją, tačiau kalbėti yra daug lengviau, nei EUV panaudoti masinėje gamyboje.
„Intel“ dar 1997 m. ėmė žvalgytis į technologijos EUV pusę, tačiau realūs darbai prasidėjo tik prieš 12 metų, kai olandų kompanijai ASML sukūrė šaltinį, kuris išgauti šviesą su reikiamu bangų ilgiu.
Praėjusią vasarą „Intel“ nusprendė palaikyti ASML ir investavo į ją nei daug, nei mažai – 4,1 mlrd. dolerių. 2014 metais „Intel“ pradės masinę 14 nm procesorių „Broadwell“ gamybą, o 2015 metais tikisi įveikti ir 10 nm technologinį procesą.
Kitu žingsniu, kuris suplanuotas 2017 m., turėtų tapti 7 nm ir perėjimas prie EUV litografijos. Jei viskas vyks sklandžiai, „Intel“ toliau galės eiti pramintu keliu kartu su Mūro dėsniu, t. y. galės ekstensyviai didinti savo sprendimų galią.
Jei netyčia atsitiktų taip, kad EUV litografija nepasiteisins, mūsų laukia vienas iš žymiausių įvykių mikroelektronikos srityje per paskutinius pusę amžiaus. Tačiau reikia tikėtis, kad viskas bus taip, kaip numatyta dabar.
